alpha400C

Mit der alpha400C können Sie auf großen Teilen reibungsminimierende Schichten erzeugen, vor allem solche auf Kohlenstoff- oder MoS2-Basis. Auch die Abscheidung von Nitrid-Hartstoffschichten bei Substrattemperaturen unter 250 °C/482 °F ist damit möglich. Unsere kleinste Magnetron-Sputteranlage bietet Ihnen hohe Flexibilität und kurze Produktionszyklen. Das macht sie für F&E-Labors in Hochschule und Industrie sehr interessant. Sie eignet sich auch perfekt für Produktionslinien bei Originalteileherstellern (OEM) mit hohem Durchsatz gleichartiger Teile – als fester Bestandteil ihres Produktionssystems.

  • Große Flexibilität und Produktivität
  • Kryo-Pumpe für schnelleres Abpumpen
  • Target Shutter System für hohe Zuverlässigkeit
  • Zugriff auf original eifeler tribologische Schichten (MoX2®, DLC)
  • Einfache Beladung und intuitive Bedienung
  • Wartungsfreundlich
  • Niedrige Betriebskosten
  • Hohe Plasmadichte
  • Nutzbares Volumen: Ø 450 mm × 525 mm
  • Beladung: max. 300 kg
  • Beschichtungskammer (L×B×H): 775 × 630 × 750 mm
  • Leergewicht: 3.000 kg, inkl. separatem Polycold
  • Flächenlast: 850 kg/m2
  • Stromversorgung: 10 kW/max. 1.000 V DC/gepulste DC
  • Sputter-Quellen: 4 Stück 643 x 145 mm, je 6 kW
  • Chargen pro Tag: 3 – 4 Chargen üblich
  • Beispielbeladung Schaftfräser (Ø 10 × 70 mm): 432 Stück pro Charge
  • Beispielbeladung Wälzfräser (Ø 100 × 150 mm): 24 Stück pro Charge
  • Drehtisch: verschiedene Anzahl von Satelliten erhältlich
  • SUCASLIDE®
  • CARBON-X®
  • CHROME-X®
  • MoX2®
  • Nitrit-Hartstoffschichten

Marco Schuite

General Manager

Phone: +49 171 311 365 0

Mourad El Barkani

Sales Manager

Region Europa/Afrika

Phone: +49 160 727 429 5

Nana Ou

General Manager Nord-Ost-Asien

Phone: +86 130 285 938 76